출원번호 : 10-2011-0015328 (2011년02월22일)
등록번호 : 10-1243279 (2013년03월07일)
특허권자 : 배재대학교 산학협력단
요약 :
본 발명은 (a) (i) 오가노트리알콕시실란, 다이오가노다이알콕시실란, 테트라알콕시실란 및 이의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 알콕시실란 전구체 및 (ii) 광열화성이 있는 형광물질을 혼합하는 단계; 및 (b) 상기 단계 (a)의 혼합물을 이용하여 염기의 존재 하에서 중합반응을 실시하여 상기 광열활성이 있는 형광물질을 폴리실리콘 입자에 내포시켜 상기 형광물질의 광열화성을 억제하는 단계를 포함하는 광열화성(photobleaching) 억제방법을 제공한다.
1020110015328




