웨이퍼 척 테이블용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법 Cleaning liquid for wafer chuck table and chemical cleaning method of wafer chuck table using the same

출원번호 : 1020180034900 (2018.03.27)

등록번호 : 1018781230000 (2018.07.06)

특허권자 : 곽도혁

요약 :

본 발명은 웨이퍼 척 테이블(wafer chuck table)용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법에 관한 것으로, 반도체 제조공정에서 웨이퍼 척 표면에 증착된 오염물을 비-파괴적이면서도 효과적으로 제거 가능한 웨이퍼 척 테이블용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법에 관한 것이다.

 

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