출원번호 : 10-2016-0087981 (출원일: 2016-07-12)
등록번호 : 10-1968124 (등록일: 2019-04-05)
특허권자 : 충남대학교산학협력단
요약 : 본 발명은 인쇄전자 분야에서 정밀 중첩 인쇄 시 필요한 각 층간의 레지스터 에러를 측정, 평가하고 제어하기 전에 레지스터 에러의 주요 원인이 될 수 있는 제판의 패턴 정밀도 측정에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 각 층 간의 중첩 정밀 제어를 위한 정밀 측정과 제어 기술이 확보될지라도 패턴이 각인된 제판에 가공, 조립, 진동 등에 의한 오차가 있을 경우 중첩 정밀도의 기본적인 한계를 측정하기 위한 롤투롤 인쇄 시스템에서 제판 가공 정밀도 측정 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 제판을 이용하고, 제안된 레퍼런스 패턴을 사용함으로써 제판 가공시 발생한 축 편심, 런-아웃, 진직도 오차에 의해 발생하는 인쇄된 패턴의 주기적 오차와 아미지 인식 및 피인쇄체의 진동에 의해 발생하는 비주기적 오차를 인쇄전자장비의 일부인 비전시스템만을 이용해 측정할 수 있는 효과가 있다. 또한 제판의 패턴 각인오차를 측정함으로써, 고정밀도 고신뢰성을 요구하는 인쇄전자소자 생산 공정 시 발생하는 패턴의 주기적/비주기적 오차의 원인을 분석할 수 있는 데이터를 제공하며 제판 가공 시 발생하는 가공오차의 원인을 분석하여 가공 정밀도를 높이는 효과가 있다.
대표청구항 : 롤투롤 인쇄 시스템에서 어느 하나의 롤러의 제판 가공 정밀도를 측정하는 방법으로서, (a) 상기 어느 하나의 롤러의 제판에 서로 다른 제1 형상과 제2 형상이 이송방향 및 축방향으로 일정한 간격을 가지고 서로 엇갈려 배치 정렬되어 각인된 레퍼런스 패턴 마크를 인쇄하는 단계; (b) 상기 단계(a)에서 인쇄되는 제1 형상과 제2 형상의 레퍼런스 패턴 마크가 하나의 화면에 포함되도록 순차적이고 연속적으로 영상을 획득하는 단계; (c) 상기 단계(b)에서 획득된 레퍼런스 패턴 마크의 영상에서 제1 형상의 레퍼런스 패턴 마크의 중심과 이 제1 형상의 레퍼런스 패턴 마크와 인접한 제2 형상의 레퍼런스 패턴 마크의 중심으로부터 이송방향 및 축방향으로의 중심간 거리를 측정하는 단계; (d) 상기 단계(c)에서 측정된 중심간 거리를 상기 단계(a)의 제판에 배치 정렬되어 각인된 제 1 형상과 제2 형상의 레퍼런스 패턴 마크의 중심간 거리와의 오차를 비교하는 단계; 및 (e) 상기 단계(d)에서 비교된 중심간의 거리오차의 변화량으로 상기 어느 하나의 롤러의 제판의 가공 정밀도를 확인하는 단계을 포함하는 롤투롤 인쇄 시스템에서의 제판 가공 정밀도 측정 방법.
상세링크 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3519162000325
