출원번호 : 1020190015507 (2019.02.11)
등록번호 : 1022362060000 (2021.03.30)
특허권자 : (주)지니아텍
요약 :
개시된 본 발명에 따른 저온 플라즈마 장치는, 접지되는 본체; 상기 본체 내부로 방전 기체가 공급된 상태에서 상기 본체 내부에 설치된 방전 전극에 전원을 공급하여 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부재; 및 상기 본체의 단부에 연결되어 상기 본체로 공급된 압축 방전 기체를 고온 기류와 저온 기류를 분리하는 과정을 통해 냉각시킨 후 방전 존으로 공급하는 방전 기체 냉각부재;를 포함한다.
본 발명에 의하면, 외부에서 유입되는 방전 기체를 보텍스 튜브 구조의 방전 기체 냉각부재를 통과시켜 저온의 방전 기체로 변환시킨 후 플라즈마 제트 내부에 공급함으로써 방전 전극에서의 전류 저항으로 인한 전극의 온도가 상승하면서 가스 온도도 상승함에 따라 공정 수행시 열에 의한 피처리물 등의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
