플라즈마 상태 모니터링 방법 및 그 장치 METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING PLASMA STATUS

출원번호 : 1020190015505 (2019.02.11)

등록번호 : 1022362050000 (2021.03.30)

특허권자 : (주)지니아텍

요약 :

개시된 본 발명에 따른 플라즈마 상태 모니터링 방법 및 그 장치 중 플라즈마 상태 모니터링 장치는, 방전 기체가 공급된 상태에서 내부에 설치된 방전 전극에 전원을 공급하여 형성된 플라즈마를 피처리물 상에 조사하는 플라즈마 제트 모듈; 상기 플라즈마 제트 모듈에서 조사된 플라즈마에서 나오는 광을 감지하는 광 감지모듈; 상기 광 감지모듈을 통해 감지된 광 신호에 대한 플라즈마의 특성 픽을 확인할 수 있도록 계측하는 분광기; 및 상기 분광기에서 계측된 플라즈마에서 산소와 관련된 성분에 해당하는 픽을 분석한 후 실시간으로 출력하는 출력모듈;을 한다.

본 발명에 의하면, 플라즈마의 특성 픽 중 산소와 관련된 성분을 IR 센서를 통해 검출 및 추출한 후 모니터링 해서 플라즈마 방전의 상태를 용이하고 정확하게 판단 가능한 효과가 있다.

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