출원번호 : 1020110094887 (2011.09.20)
등록번호 : 1012828660000 (2013.07.01)
특허권자 : (주)지니아텍
요약 :
본 발명은 플라즈마를 이용한 세정장치에 관한 것이다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 제2전극의 통과홀이 장홀 형상으로 형성되어 세정대상물의 세정력이 균일해지는 효과를 갖는다. 또한, 제2전극의 일면에서 천공홀이 제2전극의 길이방향 및 너비방향을 따라 복수가 형성되고, 타면에서는 슬릿홀이 제2전극의 길이방향을 따라 길게 형성되며 각 천공홀을 연통하고 있어, 플라즈마 발생 효율이 높으면서 동시에 세정대상물의 표면이 균일하게 세정될 수 있는 효과를 갖는다.





