고밀도 엣지 노출 레이어를 갖는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법

출원번호 : 10-2021-0024295 (출원일: 2021-02-23)

등록번호 : 10-2451619 (등록일: 2022-09-30)

특허권자 : 충남대학교산학협력단

요약 : 본 발명은 수소 발생 반응용 촉매로서 활성이 높은 고밀도 엣지 노출 레이어를 갖는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 WxMo1-xS2 (0<x<1) 전구체 용액의 수열반응에 의한 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법에 있어서, 전구체 용액의 제조 후 수열반응 전에 1~15일간 에이징하는 단계를 추가로 포함하여 엣지 노출 레이어의 밀도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법에 관한 것이다.

대표청구항 : 몰리브덴산염, 텅스텐산염 및 티오우레아 또는 티오아세트 아마이드 수용액으로 이루어진 WxMo1-xS2 (0<x<1) 전구체 용액의 수열반응에 의한 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법에 있어서,전구체 용액의 제조 후 수열반응 전에 1~15일간 에이징하는 단계를 추가로 포함하여 엣지 노출 레이어의 밀도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

상세링크 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3522414000844