보론 입자의 처리장치 및 코팅방법

출원번호 : 10-2013-0043310 (출원일: 2013-04-19)

등록번호 : 10-1478161 (등록일: 2014-12-24)

특허권자 : 충남대학교산학협력단

요약 : 보론 입자의 처리장치 및 코팅방법에 관한 것으로, 보론 입자, 용매 및 전구체를 혼합하여 공급하는 코어-쉘 물질 공급부, 상기 코어-쉘 물질 공급부에서 공급된 보론 입자에 대해 습식 밀링으로 입자 코팅을 실행하는 입도 조절 및 코팅부, 상기 습식 밀링에 의하여 코팅된 입자의 잔여물들을 처리하는 처리부를 포함하고, 상기 전구체는 TEOS(Tetraethyl orthosilicate), TMOS(Tetramethyl orthosilicate), TMS (tetramethyl-silane) 중의 어느 하나인 구성을 마련하여, 입도 조절과 다양한 코팅을 위한 전구체의 선택이 가능하여 다양한 용도에 맞게 입자를 생성할 수 있다.

대표청구항 : 보론 입자, 용매 및 전구체를 혼합하여 공급하는 코어-쉘 물질 공급부,상기 코어-쉘 물질 공급부에서 공급된 보론 입자에 대해 습식 밀링으로 입자 코팅을 실행하는 입도 조절 및 코팅부,상기 습식 밀링에 의하여 코팅된 입자의 잔여물들을 처리하는 처리부,상기 입도 조절 및 코팅부에 불활성 기체를 공급하는 불활성 가스 공급부 및상기 코어-쉘 물질 공급부, 입도 조절 및 코팅부, 불활성 가스 공급부와 처리부를 제어하는 제어부를 포함하고,상기 전구체는 TEOS(Tetraethyl orthosilicate), TMOS(Tetramethyl orthosilicate), TMS (tetramethyl-silane) 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 보론 입자의 처리장치.

상세링크 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3515014000216