출원번호 : 10-2019-0076411 (2019년06월26일)
등록번호 : 10-2214690 (2021년02월04일)
특허권자 : 한밭대학교
요약 : 본 발명에 따른 금속 전극의 패턴 형성 방법은 전극의 찢어짐, 휘어짐, 뒤틀림 등의 전극의 요구되지 않
는 변형을 방지하면서 대면적의 금속 전극에도 보다 미세 패턴을 보다 정밀하게 형성할 수 있고, 요구되는 형상
의 패턴이 형성된 금속 전극을 대량으로 제조함에 있어 재현성이 우수하며, 패턴 형성을 위한 마스터 기판의 내
구성 및 안정성이 우수한 효과가 있다.
