양친매성 표면을 위한 표면 개질 방법

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특허권자 : 충남대학교산학협력단

요약 : 본 발명은 표면이 양친매성을 나타내도록 하기 위한 표면 개질 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (A) 기판 상에 나노실리카-고분자 컴포짓을 코팅하는 단계; 및 (B) (A) 단계에 의해 코팅된 기판을 플라즈마 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 양친매성 표면을 위한 표면 개질 방법에 관한 것이다.

대표청구항 : (A) 기판 상에 나노실리카-고분자 컴포짓을 코팅하는 단계; 및(B) (A) 단계에 의해 코팅된 기판을 플라즈마 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 양친매성 표면을 위한 표면 개질 방법.

상세링크 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3516304000493