3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막의 제조방법

출원번호 : 10-2016-0073932 (출원일: 2016-06-14)

등록번호 : 10-1791220 (등록일: 2017-10-23)

특허권자 : 충남대학교산학협력단

요약 : 본 발명은 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 간단하고 경제적인 방법으로 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 A) 기판 상에 PMMA(poly(methyl methacrylate)), PBMA(poly(n-butyl methacrylate)) 및 polycarbonate로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 고분자 박막을 형성하는 단계; B) 상기 고분자 박막이 형성된 기판을 THF, 아세톤 및 아세토니트릴로부터 선택된 하나 이상의 용매와 C1~C3인 알콜로부터 선택된 하나 이상의 알콜인 비용매의 혼합용액으로 처리하고 건조시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막의 제조방법에 관한 것이다.

대표청구항 : A) 기판 상에 PMMA(poly(methyl methacrylate)), PBMA(poly(n-butyl methacrylate)) 및 polycarbonate로 이루어진 군으로부터 선택된 단일 고분자 박막을 형성하는 단계; B) 상기 고분자 박막이 형성된 기판을 THF, 아세톤 및 아세토니트릴로부터 선택된 하나 이상의 용매와 C1~C3인 알콜로부터 선택된 하나 이상의 알콜인 비용매의 혼합용액으로 처리하고 건조시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법.

상세링크 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3517442000725