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출원번호 : 10-2015-0050586
등록번호 : 10-17564560000
요약 : 본 발명은 기판 오염물 분석 장치 및 방법으로, 에칭 용액과 희석 용액을 스캔하여 오염물을 포집·분석하며, 이를 통해 웨이퍼의 특정 지점에서 깊이 방향의 프로파일을 얻고, 오염물 잔류 현상을 저감하는 효과가 있다.
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