세라믹전구체의 상전이 수화공정을 이용한 실리케이트화된 미세유체 채널제조

출원번호 : 10-2010-0115529 (출원일: 2010-11-19)

등록번호 : 10-1339873 (등록일: 2013-12-04)

특허권자 : 충남대학교산학협력단

요약 : 본 발명은 (a) 용매에 무기고분자 전구체를 희석한 용액에 광경화 개시제 또는 열경화성 개시제를 넣은 혼합물을 실리콘 고분자 채널 또는 패턴이 형성된 기판 상에 코팅하여 무기고분자 코팅층을 형성하는 단계; (b) 상기 코팅층을 경화시키는 단계; (c) 상기 경화된 코팅층을 알칼리성 용액에 침지시켜 친수성 실리케이트로 변환시키는 수화단계;를 포함하는 무기고분자를 이용한 친수성 실리케이트 구조체 제조 방법을 제공한다. 상기 친수성 실리케이트 구조체 제조방법은 공정이 간단하고 제조비용이 저렴하여 경제성이 있으면서도 안정적이고 재현성 및 내구성이 우수하며, 수백나노미터 두께의 얇은 코팅에도 우수한 내용매성을 보여 주며, 추가적인 아미노실란화를 통하여 단백질 분리 공정에도 응용할 수 있다. 또한, 높은 광투과성, 우수한 기계강도와 접착성을 나타내어 유기반응을 수행할 수 있는 마이크로 반응기, 모세관전기이동분리칼럼(column) 및 그의 광학적 검출에 응용할 수 있으며 센서(sensor) 기판으로도 응용 가능하다.

대표청구항 : (a) 실리콘 고분자 채널 또는 패턴을 형성하고 플라즈마 처리된 기판 상에, 폴리카보실레인, 폴리실라잔, 폴리보라자인, 폴리실새스실록산 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 무기고분자 전구체를 희석한 용액에 광경화 개시제 또는 열경화성 개시제를 혼합한 조성물을 코팅하여 무기고분자 코팅층을 형성하는 단계;(b) 상기 코팅층을 경화시키는 단계;(c) 상기 경화된 코팅층을 알칼리성 용액에 침지시켜 친수성 실리케이트로 변환시키는 단계;를 포함하는 무기고분자를 이용한 친수성 실리케이트 구조체 제조방법.

상세링크 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3513502002184